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產(chǎn)品分類
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GU-AI系列離子加工儀器采用無磁聚集離子束設計，實現(xiàn)高效大面積樣品加工，減少樣品表面損傷，獲取真實內(nèi)部結(jié)構(gòu)信息。其中GU-AI9000離子減薄儀能夠?qū)⒍喾N材料加工成厚度小于200微米的納米級薄片，適用于透射電鏡樣品制備。
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徠卡EM TXP 精研一體機標靶面制備系統(tǒng)具有定點修塊拋光功能，是用鋸，磨，銑削，拋光樣品后，供掃描電鏡，透射電鏡，和LM技術檢測。帶有一體化體視鏡，用于精確定位及對較細微難以觀察的目標位置進行樣品處理時觀察；使用樣品旋轉(zhuǎn)手柄，可以改變樣品觀察角度，0°－60°可調(diào)，或者垂直于樣品前表面90°觀察，可利用目鏡刻度標尺測量距離。
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全自動磁控離子濺射儀是一款注重安全與用戶體驗的多功能濺射儀，具有多重安全防護措施及自動切斷功能，確保操作安全。配備5英寸液晶顯示屏，簡化操作流程，支持自動調(diào)節(jié)真空度與樣品臺高度調(diào)節(jié)，提供直觀的濺射電流和真空度曲線顯示，記錄靶材使用時間及設備運行狀態(tài)。內(nèi)置操作向?qū)В阌谛率挚焖偕鲜郑m用于各類樣品，特別是溫度敏感材料，能實現(xiàn)高質(zhì)量鍍膜，滿足高分辨率觀測需求。
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Leica EM ACE200 低真空鍍膜機是一款高品質(zhì)臺式鍍膜儀，用來制備電子顯微鏡所需的均勻的金屬導電膜或碳膜。 這款自動化設備既可以配置成濺射鍍膜儀又可以配置成碳絲蒸發(fā)鍍膜儀。或者，根據(jù)需要，Leica EM ACE200 可以在一臺設備上裝配可調(diào)換鍍膜源，實現(xiàn)兩種鍍膜方式。
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